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产品展厅
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同步辐射氮化硅薄膜窗口
- 产地：国产
- 发布日期： 2019-03-04
- 更新日期： 2024-05-17
产品详请
| 用途 | 载体 |
| 别名 | 氮化硅薄膜 |
| 产地/厂商 | 国产 |
标准的氮化硅窗口尺寸是0.25mm、0.50mm、1.00mm、1.50mm和2.00mm。硅基芯片的标准厚度为200μm。硅基芯片的边长规格有5.0mm和10.0mm两种。我们提供的氮化硅薄膜厚度的可选项有50nm、100nm和200nm，超薄的薄膜能满足*透射率。
同步辐射氮化硅薄膜窗口
| 产品规格（接受其他规格订制） | |||
| 产品编号 | 氮化硅膜厚度，单位nm | 窗口尺寸，单位mm2 | 外框尺寸，单位mm2 |
| TE025B | 50 | 0.25×0.25 | 5×5 |
| TE050B | 50 | 0.50×0.50 | 5×5 |
| TE100B | 50 | 1.00×1.00 | 5×5 |
| TE150B | 50 | 1.50×1.50 | 5×5 |
| TE200B | 50 | 2.00×2.00 | 5×5 |
| TE025C | 100 | 0.25×0.25 | 5×5 |
| TE050C | 100 | 0.50×0.50 | 5×5 |
| TE100C | 100 | 1.00×1.00 | 5×5 |
| TE150C | 100 | 1.50×1.50 | 5×5 |
| TE200C | 100 | 2.00×2.00 | 5×5 |
| TE025D | 200 | 0.25×0.25 | 5×5 |
| 每盒装有10枚芯片 | |||
